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分析師:中芯合作案成效3~5年後才能顯現

來源:電子產品世界 時間:2015-06-30 00:00:00

    中國晶圓代工業者中芯國際(SMIC),日前宣布與華為(Huawei)、比利時微電子研究中心(Imec)、高通附屬公司(Qualcomm Global Trading).宣布共同投資“中芯國際集成電路新技術研發(上海)有限公司”,開發下一代CMOS邏輯製程,目前計畫以14奈米製程研發為起點,並在中芯國際的生產線上進行研究(參考連結)。

  中芯國際為中國最大晶圓代工製程廠商,目前8寸晶圓月產能約14萬片,12寸晶圓月產能約5萬片。現階段已量產的最先進製程為40/45奈米;28奈米則進入與客戶共同開發的階段;至於14奈米還沒有明確的量產時程。 針對中芯國際此次的跨國合作案,全球市場研究機構TrendForce認為,從成員對14奈米製程都具備相當程度了解來看,的確是一時之選;然而若綜觀投入研發到未來成果收割所需的時間,預估成效至少要3至5年後才能顯現,短期內幫助恐怕有限。

  此外TrendForce認為,此中芯國際合作案未來仍有下列重點值得觀察:

  1. 華為與高通利害關係值得關注──華為與高通雖算是長期合作夥伴,但是華為旗下的海思卻是高通競爭對手之一。因此雙方間的利害關係是否會影響到彼此的投入與支援程度,將是此合作案成敗的關鍵因素。

  2. Imec擅長於先進製程的前期研究,但量產經驗有限 ──Imec為歐洲半導體先進製程/材料第一研發中心,目前也正著手研發14奈米及下一代的7奈米製程。但是Imec所研發的技術大多用於先進製程的前期研究,所以對於量產的經驗提供相對有限,而且先前大多的研究結果都是用於6寸與8寸晶圓,12寸經驗較為缺乏。

  3. 是否能取得HKMG與FinFET關鍵技術?──半導體製程自28奈米以後,為同時滿足客戶對功耗與效能的要求,HKMG (High K/ Metal gate)與FinFET已成為兩大關鍵技術。此次中芯國際能否透過合作案取得相關技術,更進一步建立起自身的研發能力,將成中芯國際日後能否快速壯大的關鍵所在。

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